高分子電解質膜にイオンビームを照射すると、その部分だけが無電めっきされない技術として特許登録しています。
いわゆる高分子電解質膜全般を対象とするめっき技術となっています。高分子電解質膜材とイオンビームという一般的な組み合わせで、無電解めっきのパターン化が実現する特許技術です。従来のマスキングテープなどによるめっきのパターン化などと違ってメリットが多い内容です。この技術を使えば、多チャンネル型の3D曲面制御できる高分子アクチュエータ素子やアレイセンサ等に応用できます。本技術はノウハウが多々ありますので、共同研究や有料技術相談で関心があればお問い合わせ下さい。
金属めっき材料の製造方法、庄司英一、畑下昌範 特許第5756657号
